產(chǎn)品詳情
包括硅片清洗、脫水烘培、硅片成底膜三個步驟。氣相成底膜采用濕法清洗和去離子水沖洗以去除玷污物,通過脫水烘培去除水汽,然后馬上用六甲基二硅烷(HMDS)進(jìn)行成底膜處理,harmonic自動化軌道諧波CSF-14-50-2UJ它起到提高粘附力的作用。成底膜過程通常在如示自動化軌道系統(tǒng)上與其他工藝按順序完成。
2.旋轉(zhuǎn)涂膠
光刻膠最基本的組成是有機(jī)溶劑中的harmonic自動化軌道諧波CSF-14-50-2UJ一種聚合物溶液。光刻膠的物理特性包括分辨率、對比度、敏感度、粘滯性、粘附性、抗蝕性、表面張力、存儲與傳送特性、玷污和顆粒控制等。光刻膠主要有兩個作用:將掩膜版上的圖形轉(zhuǎn)移到光刻膠上,在后續(xù)工藝中保護(hù)下面的材料。harmonic自動化軌道諧波CSF-14-50-2UJ光刻膠適合于旋轉(zhuǎn)涂膠,硅片會持續(xù)旋轉(zhuǎn)涂膠直到硅片表面形成一層薄膜。