產(chǎn)品詳情
既是化學(xué)反應(yīng)，故免不了「質(zhì)量傳輸」與「化學(xué)反應(yīng)」兩部份機(jī)制harmonic質(zhì)量傳輸諧波CSF-11-50-2XH-Fc。由于化學(xué)反應(yīng)隨溫度呈指數(shù)函數(shù)之變化，故當(dāng)高溫時(shí)，迅速完成化學(xué)反應(yīng)。換言之，整體沉積速率卡在質(zhì)量傳輸(diffusion-limited)；而此部份事實(shí)上隨溫度之變化，不像化學(xué)反應(yīng)般敏感。harmonic質(zhì)量傳輸諧波CSF-11-50-2XH-F所以對于化學(xué)氣相沉積來說，，提高制程溫度，容易掌握沉積的速率或制程之重復(fù)性。
然而高制程溫度有幾項(xiàng)缺點(diǎn)：?高溫制程環(huán)境所需電力成本較高。
高溫成長之薄膜，冷卻至常溫后，會產(chǎn)生因各基板與薄膜間熱脹縮程度不同之殘留應(yīng)力(residualstress)。
所以，低制程溫度仍是化學(xué)氣相沉積追求的目標(biāo)之一harmonic質(zhì)量傳輸諧波CSF-11-50-2XH-F，惟如此一來，在制程技術(shù)上面臨之問 題及難度也跟著提高。
