石英真空等離子清洗機XT-SYPL10

一、 等離子體和設備的工作原理

等離子體是正離子和電子的密度大致相等的電離氣體。由離子、電子、自由激進分子、光子以及中性粒子組成，是物質的第四態(tài)。在等離子體中除了氣體分子、離子和電子外，還有存在受到能量激勵狀態(tài)電中性的原子或原子團(又稱自由基)，以及等離子體發(fā)射出的光線，其中波的長短、能量的高低,在等離子體與物體表面相互作用時有著重要的作用。（1）原子團等自由基與物體表面的反應（2）電子與物體表面的作用（3）離子與物體表面的作用（4）紫外線與物體表面的反應

運用等離子體的特殊化學物理特性，等離子清洗設備的主要用途如下：

1.   去除灰塵和油污、去靜電；

2.   提高表面浸潤功能，形成活化表面；

3.   提高表面附著能力、提高表面粘接的可靠性和持久性；

4.   刻蝕物的處理作用.

等離子清洗的作用原理主要是：

（A）對材料表面的刻蝕作用--物理作用 等離子體中的大量離子、激収態(tài)分子、自由基等多種活性粒子，作用到固體樣品表面，清除了表面原有的污染物和雜質，而且會產生刻蝕作用，將樣品表面變粗糙，形成許多微細坑洼，增大了樣品的比表面。提高固體表面的潤濕性能。

（B）激活鍵能，交聯(lián)作用

等離子體中的粒子能量在 0~20eV，而聚合物中大部分的鍵能在 0~10eV，因此等離子體作用到固體表面后，可以將固體表面的原有的化學鍵產生斷裂，等離子體中的自由基中的這些鍵形成網狀的交聯(lián)結構，大大地激活了表面活性。

（C）形成新的官能團--化學作用如果放電氣體中引入反應性氣體，那么在活化的材料表面會發(fā)生復雜的化學反應，引入新的官能團，如烴基、氨基、羧基等，這些官能團都是活性基團，能明顯提高材料表面活性。

等離子體和設備的工作原理

等離子體是正離子和電子的密度大致相等的電離氣體。由離子、電子、自由激進分子、光子以及中性粒子組成，是物質的第四態(tài)。在等離子體中除了氣體分子、離子和電子外，還有存在受到能量激勵狀態(tài)電中性的原子或原子團(又稱自由基)，以及等離子體發(fā)射出的光線，其中波的長短、能量的高低,在等離子體與物體表面相互作用時有著重要的作用。（1）原子團等自由基與物體表面的反應（2）電子與物體表面的作用（3）離子與物體表面的作用（4）紫外線與物體表面的反應

運用等離子體的特殊化學物理特性，等離子清洗設備的主要用途如下：

1.   去除灰塵和油污、去靜電；

2.   提高表面浸潤功能，形成活化表面；

3.   提高表面附著能力、提高表面粘接的可靠性和持久性；

4.   刻蝕物的處理作用.

等離子清洗的作用原理主要是：

（A）對材料表面的刻蝕作用--物理作用 等離子體中的大量離子、激収態(tài)分子、自由基等多種活性粒子，作用到固體樣品表面，清除了表面原有的污染物和雜質，而且會產生刻蝕作用，將樣品表面變粗糙，形成許多微細坑洼，增大了樣品的比表面。提高固體表面的潤濕性能。

（B）激活鍵能，交聯(lián)作用

等離子體中的粒子能量在 0~20eV，而聚合物中大部分的鍵能在 0~10eV，因此等離子體作用到固體表面后，可以將固體表面的原有的化學鍵產生斷裂，等離子體中的自由基中的這些鍵形成網狀的交聯(lián)結構，大大地激活了表面活性。

（C）形成新的官能團--化學作用如果放電氣體中引入反應性氣體，那么在活化的材料表面會發(fā)生復雜的化學反應，引入新的官能團，如烴基、氨基、羧基等，這些官能團都是活性基團，能明顯提高材料表面活性。

石英型真空等離子清洗機主要由石英真空腔體、高頻等離子發(fā)生器、抽真空系統(tǒng)、充氣系統(tǒng)、PLC自動控制系統(tǒng)等部分組成，采用電感耦合式工作原理，利用真空泵達到一定的真空值后，在電感的作用下，形成了活性很高的等離子體，由此產生的等離子體可以達到表面改性清洗處理的效果。等離子態(tài)顯著的特點是高均勻性輝光放電，根據不同氣體發(fā)出從藍色到深紫色的色彩可見光。石英腔體可保證等離子體在狹小的空間里，腔體溫度不升高。這些高度活躍微粒子和處理的表面發(fā)生作用，得到了表面親水性、拒水性、低摩擦、高度清潔、激活、蝕刻等各種表面改性。

石英型真空等離子清洗機采用電感耦合式工作原理，在微波管、零件絕緣方面作用很突出，適用于高潔凈度的敏感產品處理；廣泛地被大中院校、科研機構、企業(yè)研發(fā)機構，實驗室和企業(yè)小批量試產階段采用。其產品主要應用在材料科學、高分子科學、生物醫(yī)藥材料學、微流體研究、微電子機械系統(tǒng)研究、光學、顯微術、牙科醫(yī)療等領域中的污染物清除、表面活化、粘合前處理、表面化學改性、聚合物移植或表面涂覆等方面。該產品能處理塑料、生化材料、PDMS、玻璃或金屬半導體、陶瓷、復合材料、高分子聚合物等材料，并對所處理的材料表面帶來表面 超潔凈、殺菌、提高濕潤性轉變、表面性質改變、提高結合力等處理效果。

二、 設備主要功能特點

? 石英圓形真空腔體，腔體處理溫度低，避免長時間等離子處理造成的腔體溫度過高，確保對樣品表面沒有造成熱影響。

? 原裝進口電源：采用原裝進口電源電路技術，產生高密度等離子體，確保出眾的清洗效果，頻率13.56MHZ,功率0-600W連續(xù)調節(jié),自動阻抗匹配。

? 獨有放電技術：特殊處理及特殊結構的放電裝置，確保形成穩(wěn)定均勻的等離子體。

? 密封性卓越的真空腔體設計：軍工級的高真空度真空腔體設計及制造工藝，并配置進口技術真空泵運行。

? 高精度氣體流量監(jiān)測系統(tǒng)，兩種工藝氣體配置(氬氣、氧氣），雙路氣流控制，，比例可調，采用高精度浮子流量計、美國世維洛克氣體管路及閥件。

? 自主研發(fā)的低壓(真空)等離子清洗機軟件系統(tǒng)，性能穩(wěn)定可靠，操作簡單，便于維護，高效便捷。

? 強大的全面安全防護系統(tǒng)：溫度安全防護功能，過載防護功能，短路斷路報警防護功能，各種誤操作保護功能。

? 優(yōu)質產品部件：產品部件采用國內外頂尖優(yōu)質品牌，確保設備性能優(yōu)越。

? 數字計時單元：0~99.9小時選擇范圍時間顯示，處理過程結束后自動終止

? 精密數控加工：進口精密CNC數控機床加工工藝，并經過進口三坐標測量儀進行質量監(jiān)控。

? 適用形狀復雜樣品：清洗各種復雜形狀的產品，包括內孔內壁，全方位均勻清洗。

? 處理全程無污染 ，等離子清洗機本身是很環(huán)保的設備，無產生任何污染，處理過

程也無產生任何污染?？梢耘c原有生產流水線搭配，實現(xiàn)全自動在線生產，節(jié)約人力

成本。

三、 設備主要參數

四、 設備應用領域：

石英型真空等離子處理設備廣泛應用于：

1．等離子表面活化/清洗；   2.等離子處理后粘合;

3. 等離子蝕刻/活化;         4. 等離子去膠;

5. 等離子涂鍍(親水,疏水);   6. 增強邦定性；

7.等離子涂覆；      8.等離子灰化和表面改性等場合。

通過其處理，能夠改善材料表面的浸潤能力，使多種材料能夠進行涂覆、鍍等操作，增強粘合力、鍵合力，同時去除有機污染物、油污或油脂。

等離子腔體氣體反應作用，工藝配方參考：常用氧氣+氬氣