產(chǎn)品詳情
品名：鈦靶
標(biāo)準(zhǔn)：ASTM B348，ASTM B381，AMS4928
生產(chǎn)工藝：鍛造
規(guī)格：直徑100*45、100*40、80*40、72*20(單位:mm)
產(chǎn)品描述：為了減少靶材固體中的氣孔，提高濺射薄膜的性能，通常要求靶材具有較高的密度。靶材的密度不僅影響濺射速率，還影響著薄膜的電學(xué)和光學(xué)性能。靶材密度越高，薄膜的性能越好。此外，提高靶材的密度和強度使靶材能更好地承受濺射過程中的熱應(yīng)力。密度也是靶材的關(guān)鍵性能指標(biāo)之一。
靶材應(yīng)用:
鈦靶
標(biāo)準(zhǔn)：ASTM B348，ASTM B381，AMS4928
生產(chǎn)工藝：鍛造
規(guī)格：直徑100*45、100*40、80*40、72*20(單位:mm)
產(chǎn)品描述：為了減少靶材固體中的氣孔，提高濺射薄膜的性能，通常要求靶材具有較高的密度。靶材的密度不僅影響濺射速率，還影響著薄膜的電學(xué)和光學(xué)性能。靶材密度越高，薄膜的性能越好。此外，提高靶材的密度和強度使靶材能更好地承受濺射過程中的熱應(yīng)力。密度也是靶材的關(guān)鍵性能指標(biāo)之一。
靶材應(yīng)用:
濺射靶材主要應(yīng)用于電子及信息產(chǎn)業(yè)，如集成電路、信息存儲、液晶顯示屏、激光存儲器、電子控制器件等；亦可應(yīng)用于玻璃鍍膜領(lǐng)域；還可以應(yīng)用于耐磨材料、高溫耐蝕、高檔裝飾用品等行業(yè)。
靶材分類:
根據(jù)形狀可分為：方靶、圓靶、異型靶
鈦靶、鈦靶塊、鈦板靶參數(shù)：
牌號:
TA1=GR2， TA2=GR2， TA3=GR3， TA4=GR4（工業(yè)純鈦）， TA7=GR6（鈦-5AL-2.5Sn(錫)）
TC4=GR5（鈦-6AL-4v ）, TA9=GR7 鈦-0.2Pd(鈀), 半TC4=GR9=TA18（鈦-3AL-2.5v），
TA8=GR16（鈦-0.05pd）， TA10=GR12（鈦- 0.3mo-0.8ni）
標(biāo)準(zhǔn)：ASTM B348，ASTM B381，AMS4928
鈦圓靶規(guī)格：直徑100*45、100*40、80*40、72*20(單位:mm)
鈦板靶規(guī)格：厚度8~20*100~300*500~2000(單位:mm)
鈦管靶規(guī)格：直徑70*7、70*9、76*10(單位:mm)
亦可應(yīng)用于玻璃鍍膜領(lǐng)域；還可以應(yīng)用于耐磨材料、高溫耐蝕、高檔裝飾用品等行業(yè)。靶材分類:
根據(jù)形狀可分為：方靶、圓靶、異型靶
鈦靶、鈦靶塊、鈦板靶參數(shù)：
牌號:
TA1=GR2， TA2=GR2， TA3=GR3， TA4=GR4（工業(yè)純鈦）， TA7=GR6（鈦-5AL-2.5Sn(錫)）
TC4=GR5（鈦-6AL-4v ）, TA9=GR7 鈦-0.2Pd(鈀), 半TC4=GR9=TA18（鈦-3AL-2.5v），
TA8=GR16（鈦-0.05pd）， TA10=GR12（鈦- 0.3mo-0.8ni）
標(biāo)準(zhǔn)：ASTM B348，ASTM B381，AMS4928
鈦圓靶規(guī)格：直徑100*45、100*40、80*40、72*20(單位:mm)
鈦板靶規(guī)格：厚度8~20*100~300*500~2000(單位:mm)
管靶規(guī)格：直徑70*7、70*9、76*10(單位:mm)
