氧化亞硅負氣相沉積爐_CVD氣象沉積爐

數(shù)量(臺) 價格
1 3800.00元/臺
  • 最小起訂: 1臺
  • 發(fā)貨地址: 陜西 咸陽市
  • 發(fā)布日期:2021-02-25
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咸陽鴻峰窯爐設備有限公司

實名認證 企業(yè)認證
  • 聯(lián)系人:孟凡點
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  • 電話:-
  • 營業(yè)執(zhí)照:已審核 營業(yè)執(zhí)照
  • 經(jīng)營模式: 貿(mào)易型-私營有限責任公司
  • 所在地區(qū):陜西 咸陽市
  • 家家通積分:137分
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詳細參數(shù)
品牌鴻峰型號HF-RS-A
類型氧化亞硅制備爐加工定制
產(chǎn)品別名氧化亞硅制備爐產(chǎn)品用途氧化亞硅制備
功率6kw外形尺寸1700*720*1570
重量2000kg產(chǎn)地陜西咸陽

產(chǎn)品詳情

我公司咸陽鴻峰窯爐設備有限公司較早進入這一領域的廠家,與該領域研究的前沿科研院所長期保持交流溝通,爐體的結構設計及工藝實現(xiàn)得到了很多專業(yè)人士的認可,西北工業(yè)大學及哈爾濱工業(yè)大學的教授都給予了很多改進意見,經(jīng)過多年的研究創(chuàng)新,公司現(xiàn)研發(fā)的新一代窯爐設備具有設計合理,運行穩(wěn)定,成品規(guī)格高,良率高,節(jié)能環(huán)保等特點,可規(guī)?;瘧糜诠I(yè)生產(chǎn)領域。

該設備為咸陽鴻峰窯爐設備有限公司開發(fā)的,專業(yè)應用于硅碳原材料一氧化硅制備的設備。

該設備主要應用于氣相法(CVD法)制備氧化亞硅

該設備溫控精度1度。

該設備溫度控制2000度以內(nèi)。

該設備升溫速率快。

該設備可以可以在10-3的真空度下保持穩(wěn)定

該設備產(chǎn)量大

該設備能耗低

該設備經(jīng)過業(yè)內(nèi)驗證,做出的材料品質(zhì)良好

設備參數(shù)
1 名稱 HF-RS-A(氧化亞硅專用升華爐)
2 爐型 臥室
3 設備組成 升華系統(tǒng)、加熱系統(tǒng)、溫控系統(tǒng)、真空系統(tǒng)、機械系統(tǒng)、冷卻系統(tǒng) 
4 升華系統(tǒng)由燒結區(qū)和收集區(qū)組成。 收集倉的材質(zhì)由客戶
5 溫控系統(tǒng)采用 PLC 觸屏控制方式
6 加熱系統(tǒng)該設備采用電阻絲加熱
7 真空系統(tǒng)真空泵真空閥門及管路組成
8 機械部分區(qū)外殼采用 304 不銹鋼制作
9 冷卻系統(tǒng) 該設備配置兩段的冷卻系統(tǒng)
10 外形尺寸 1600mm*700mm*1600mm (終以設計尺寸為主)

 

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