產(chǎn)品詳情
江蘇回轉(zhuǎn)窯工業(yè)煙氣脫硝設(shè)備
回轉(zhuǎn)窯脫硝選擇性非催化還原技術(shù)就是用NH3、尿素等還原劑噴入窯內(nèi)與NOX進(jìn)行選擇性反應(yīng)，不用催化劑，因此必須在高溫區(qū)加入還原劑，而且還需要一定的停留時(shí)間。還原劑噴入窯內(nèi)合適的溫度區(qū)域，該還原劑（尿素）迅速熱分解成NH3并與煙氣中的NOX進(jìn)行SNCR反應(yīng)生成N2，該方法是以回轉(zhuǎn)窯內(nèi)為反應(yīng)器。
在回轉(zhuǎn)窯內(nèi)這一狹窄的溫度范圍內(nèi)、在無催化劑作用下，NH3或尿素等氨基還原劑可選擇性地還原煙氣中的NOX，基本上不與煙氣中的O2作用，據(jù)此發(fā)展了SNCR法。在一定溫度范圍內(nèi)，NH3或尿素還原NOX的主要反應(yīng)為：
NH3為還原劑
4NH3+4NO+O2→4N2+6H2O
尿素為還原劑
NO+CO(NH2)2+1/2O2→2N2+CO2+H2O
當(dāng)溫度高于1100℃時(shí), NH3則會(huì)被氧化為
4NH3+5O2→4NO+6H2O
不同還原劑有不同的反應(yīng)溫度范圍，此溫度范圍稱為溫度窗。NH3的反應(yīng)溫度區(qū)為850～950℃。當(dāng)反應(yīng)溫度過高時(shí)，由于氨的分解會(huì)使NOX還原率降低，另一方面，反應(yīng)溫度過低時(shí)，氨的逃逸增加，也會(huì)使NOX還原率降低。NH3是高揮發(fā)性和有毒物質(zhì)，氨的逃逸會(huì)造成新的環(huán)境污染。
引起SNCR系統(tǒng)氨逃逸的原因有兩種，一是由于噴入點(diǎn)煙氣溫度低影響了氨與NOX的反應(yīng)；另一種可能是噴入的還原劑過量或還原劑分布不均勻。還原劑噴入系統(tǒng)必須能將還原劑噴入到窯內(nèi)有效的部位，因?yàn)?/span>NOX在窯內(nèi)的分布經(jīng)常變化，如果噴入控制點(diǎn)太少或噴到爐內(nèi)某個(gè)斷面上的氨分布不均勻，則會(huì)出現(xiàn)分布較高的氨逃逸量。在直徑較大的回轉(zhuǎn)窯中，還原劑的均勻分布則更困難，因?yàn)檩^長(zhǎng)的噴入距離需要覆蓋相當(dāng)大的回轉(zhuǎn)窯內(nèi)截面。為保證脫硝反應(yīng)能充分地進(jìn)行，以少的噴入NH3量達(dá)到好的還原效果，必須設(shè)法使噴入的NH3與煙氣良好地混合。
