產(chǎn)品詳情
1、體模類別
包含式
(a)KS215T—1型，背景材料內(nèi)平置兩層變截面圓柱形靶標(biāo)，用于檢測“準(zhǔn)靜態(tài)應(yīng)變彈性成像設(shè)備”和“基于聲輻射力的超聲彈性成像設(shè)備”的空間分辨力(可成像的最小靶標(biāo)尺寸)、楊氏模量(或剪切波速)測量準(zhǔn)確度、模量比準(zhǔn)確度等。
(b)KS215T—2型，背景材料內(nèi)斜置等截面圓柱形靶標(biāo)，用于檢測“準(zhǔn)靜態(tài)應(yīng)變彈性成像設(shè)備”和“基于聲輻射力的超聲彈性成像設(shè)備”的探測深度(可成像深度)。
(2)均一式：KS215T—3型，按楊氏模量或剪切波速數(shù)值不同排成系列，用于檢測聲輻射力彈性成像系統(tǒng)和瞬時彈性圖儀的楊氏模量(剪切波速)測量準(zhǔn)確度和探測深度。
按照標(biāo)準(zhǔn)，彈性體模每套中應(yīng)包括KS215T—1型4件，KS215T—2型1件，KS215T—3型5件(不同模量或剪切波速形成系列)。
包含式體模的技術(shù)要求
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序號 |
????????項目 |
技術(shù)要求 |
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1 |
背景材料的縱波聲速 |
(1540±10)m/s |
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2 |
背景材料的縱波聲衰減系數(shù)斜率 |
(0.70±0.05)dB/(cm·MHz)或(0.50±0.05)dB/(cm·MHz) |
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3 |
靶標(biāo)材料的縱波聲速 |
(1540±10)m/s |
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4 |
靶標(biāo)材料的縱波聲衰減系數(shù)斜率 |
(0.70±0.05)dB/(cm·MHz)或(0.50±0.05)dB/(cm·MHz) |
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5 |
背景和靶標(biāo)材料的楊氏模量 |
(1)靶標(biāo)材料的楊氏模量至少分為四種； (2)zui低、背景、zui高之比約為1：3：9； (3)zui低為(8±2)kPa，zui高為(80±10)kPa； (4)另外兩種介于zui低與背景之間和背景與zui高之間。 |
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6 |
靶標(biāo)形狀和尺寸 |
(1)橫向靶標(biāo)：階梯式圓柱形，共分為五至六段，zui小直徑不大于3mm，zui大直徑不大于20mm；也可以是直徑與圓柱體各段對應(yīng)的分立球體。 (2)探測深度靶標(biāo)：均一圓柱形，直徑(12±2)mm。 |
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7 |
靶標(biāo)空間布置 |
(1)橫向靶標(biāo)的軸平行于聲窗表面，且彼此平行； (2)橫向靶標(biāo)分為兩層，每層包括四種楊氏模量的各一件； (3)兩層橫向靶標(biāo)分別位于聲窗表面以下30mm和60mm處，； (4)探測深度靶標(biāo)斜置于背景材料中，軸向與聲窗表面夾角為45°，包括四種楊氏模量的各一件。 |
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8 |
體?？偵疃?/span> |
不小于100mm。 |
均一式體模的技術(shù)要求
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序號 |
項目 |
技術(shù)要求 |
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1 |
材料的縱波聲速 |
(1540±10)m/s |
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2 |
材料的縱波聲衰減系數(shù)斜率 |
(0.70±0.05)dB/(cm·MHz)或(0.50±0.05)dB/(cm·MHz) |
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3 |
材料的楊氏模量 |
下限為(5±1)kPa，上限為(80±10)kPa，分成5個臺階。 |
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4 |
材料塊體的形狀 |
一般為長方體、正方體或圓柱體。 |
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5 |
材料塊體的尺寸 |
橫向尺寸不小于80mm，深度方向不小于100mm。 |
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6 |
體模中材料塊體的放置 |
置于獨立的外殼中。 |
