產(chǎn)品詳情
鉬靶材廣泛用于導電玻璃、STN/TN/TFT-LCD、光學玻璃、離子鍍膜等行業(yè)，適用所有平面鍍膜及旋轉(zhuǎn)鍍膜系統(tǒng)。
鉬靶 密度10.2克/立方厘米。熔點2610℃。沸點5560℃。
鉬靶材純度：99.9% ，99.99%
規(guī)格：圓形靶，板靶，旋轉(zhuǎn)靶
鉬靶材廣泛用于導電玻璃、STN/TN/TFT-LCD、光學玻璃、離子鍍膜等行業(yè)，適用所有平面鍍膜及旋轉(zhuǎn)鍍膜系統(tǒng)。
純度：純鉬≥99.95%，高溫鉬≥99%（添加稀土元素）
密度：≥10.2g/cm3
熔點：2610℃
供貨狀態(tài)：成品態(tài)
規(guī)格：根據(jù)客戶要求定制
生產(chǎn)工藝流程：
鉬坯(原材料)-檢驗-熱軋--堿洗-冷軋-校平-機械加工-檢驗-包裝
包裝方式:木箱包裝
工期：定制15天內(nèi)交貨（庫存隨時發(fā)貨）。
發(fā)貨方式：快遞或物流（可協(xié)商）
運 費：供應商承擔。
后期服務：保質(zhì)期內(nèi)如出現(xiàn)質(zhì)量問題，供方承擔所有責任（正常使用范圍內(nèi)）。
鉬材料適用環(huán)境：真空環(huán)境或惰性氣體保護環(huán)境，純鉬較高耐高溫1200度，鉬合金較高耐高溫1700度。
鉬材料的適用行業(yè)及用途：鉬材料主要用在真空高溫行業(yè)，電子行業(yè)，藍寶石熱場及航空航天制造行業(yè)等，鉬材料經(jīng)過變形量達到60%以上的軋制加工后，鉬的密度基本上接近于理論密度，因此其具有高強度，內(nèi)部組織均勻和優(yōu)良的抗高溫蠕變性能，被廣泛應用于生產(chǎn)藍寶石晶體生長爐內(nèi)的反射屏，蓋板真空爐內(nèi)的反射屏，發(fā)熱帶，連接件，等離子鍍膜用的濺射靶材，耐高溫舟皿等制品。
洛陽高新四豐電子材料有限公司是一家從事TFT-LCD/AMOLED、半導體IC制造用高純?yōu)R射靶材——高純鉬/銅/鈦等系列產(chǎn)品的研發(fā)、生產(chǎn)、銷售的高新技術(shù)企業(yè)。濺射靶材產(chǎn)品主要有TFT-LCD/AMOLED、半導體IC及光伏太陽能制造用高純鉬及鉬合金、銅、鈦、鎢等平面靶材和旋轉(zhuǎn)管靶等金屬靶材。此外，公司生產(chǎn)的鎢鉬深加工制品、鎢合金薄板和軍工用鎢合金、TZM板棒材、精加工鎢鉬零件等超高溫特種功能材料廣泛應用于單晶爐、鋼鐵、醫(yī)療、軍工等行業(yè)。歡迎大家咨詢選購。
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